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第102、103章 EVU联盟(为阁昏晓及订阅加更) (第1/3页)

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“古川君?怎么了?”众人疑惑的看着他。

古川太智说道:“就在刚刚,神州科学院宣布,他们已经突破了极紫外光刻胶生产技术,将开始大规模制造和生产高端光刻胶!”

“什么?”几大集团的代表猛的站了起来,“这可不是能开玩笑的事情!”

“我没有开玩笑!”古川太智说道,“神州的几家光刻胶企业宣布,已经获得技术授权,立刻建造厂房,开始生产!”

众人见他语气焦急,不像是说假话,立刻查询资料。

很快,他们便看到了新闻消息。

“确认消息是真实的吗?”东京应化集团的代表打电话询问集团神州区域的总裁。

“是真实的,我们已经派人接触了,他们还专门展示了样品和相关数据!”对方回复道。

“怎么会这么快?”会场里,这些樱花光刻胶企业的代表们面面相觑,他们停货才一个月时间吧?

一个月,他们的技术优势,产品垄断,就没了?

就连青木大贵也懵了,要真是这样,他们岂不是搬起石头砸了自己的脚?

他们刚刚退出神州市场,神州就有了自己的高端光刻胶,这不是白白把市场份额给让出去吗?世界上还有这么蠢的事情?

“八嘎!”jsr的代表怒骂道,“这可是一年百亿美金的市场,就因为愚蠢的协议,拱手让人了?”

青木大贵也不敢随便说话,这些跨国集团的能量也不小,他只能心虚的说道:“也许他们早就突破了这个技术,现在才公布而已。”

“不!”古川太智愤怒道,“这完全是你们的愚蠢协议导致的!”

“我得到消息,就因为这件事,神州调集了全国的专家,联合了上万家企业一起研发,所以进度才这么快!正常情况下,他们绝不可能这么快突破极紫外光刻胶技术!”

听到古川太智的话,其他代表纷纷对青木大贵怒目而视。他们用了几十年的时候,和灯国的企业竞争,好不容易奠定了光刻胶国际龙头的地位,没想到一个月之内,就被人赶超!

这一切,都是那什么“全面合作”协议导致的!

“青木君,我们需要一个解释!”jsr的代表说道。

“我们的损失,是樱花国的管理者造成的!他必须拿出解决方案!”东京应化的代表说道。

“我们集团会发出抗议书的!”富士胶片的代表冷声说道,他们说的抗议,不是让员工上街抗议,而是在更高层级的级别博弈。

这些大资本和樱花岛管理方有着千丝万缕的联系,青木大贵背后冷汗直冒,他知道,自己这一派,已经得罪了一个大资本集团!

到时候,肯定要有人背锅,平息他们的怒火,自己很可能成为背锅侠!

“为什么,这才一个月啊!”青木大贵心里在呐喊,这个技术突破再晚几个月,神州一定会让步的,可为什么会这么快?

……

极紫外光刻胶的突破,代表了光刻机和芯片制造最关键的材料问题已经解决。

同时,卢建业的团队已经打磨出了极紫外光刻机所需要的“镜头”。这玩意在以前,也是花钱都买不到的产品之一,只有汉斯的蔡司公司才能制造,而现在,神州已经能自己制造了。

其他的高端零部件,也在同步制造中。

芯片设计上,反而比较简单。神州本来就能设计出高精密的芯片,只是没法制造出来。何星舟稍加改进,便完成了3纳米制程芯片的设计。

现在距离极紫外光刻机制造,以及3纳米制程芯片的生产,只剩下最后一个问题——极紫外光刀!

何星舟来到了光电研究所,跟严蕊院士的团队一起研究。

激光研究室里,严蕊正在讲述他们遇到的问题:“我们现在是采用气体喷射的方式用激光轰击靶材料产生等离子体,等离子体发euv辐射,euv辐射经过由周期性多层薄膜反射镜组成的聚焦系统入射到反射掩模上.射出的euv光波再通过反射镜组成的投影系统,将反射掩模上的集成电路的几何图形成像到硅片上的光刻胶中,从而形成集成电路所需要的光刻图形。”

“理论上,这个过程没有问题。”何星舟点点头。

“但问题在于如何在提高euv光源瓦数的同时,降低等离子气氛中微粒、高速粒子和其它污染物。”严蕊头疼道,“不然光源就会迅速恶化。还有,极紫外投影光刻系统使用了反射式掩模。”

“我们的euv掩膜缺陷仍高达ldefect/cm2,检测机台的制造水平也要得到进一步提升。”

“检测机台的问题,我想卢教授那边的团队应该能解决。”何星舟说道,“至于极紫外光源的问题,我想到了一个解决方案。”

“什么方案?”这群院士和专家们都看着他。

何星舟说道:“光源瓦数的提升,可以用电能!”

“在高功率激光加热负载体形成等离子体并且多次反射后,形成

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